uv光氧催化设备

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UV光氧催 化设备的工艺原理

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UV光氧催 化设备的工艺原理

发布日期:2019-07-23 14:59 作者:www. 点击:

本产品 选用高能高臭氧UV紫外线光束、氧化反响催化剂、高能离 子发作设备的组合工艺来降解有机废气,改动恶臭、影响型气体如:氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC类、苯、甲苯、二甲苯的分子链结构,使有机 或无机高分子恶臭化合物分子链,通过高 能紫外线光束照射、催化剂的氧化反响、正氧离子的氧化反响,降解转 变成低分子化合物,如CO2、H2O等。
 
一、工艺原理如下:
1、运用高 能高臭氧紫外线光束分解空气中的氧分子发作游离氧,即活性氧,因游离 氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,从而发作臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),众所周 知臭氧对有机物具有很强的氧化效果,对有机 气体及其它影响性异味有马到成功的根除效果。有机性 气体运用排风设备输入到本净化设备后,运用高 能紫外线光束及臭氧对有机(异味)气体进 行协同分解氧化反响,使有机 气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通过 排风管道排出室外。
 
2、高能离 子空气净化系选用正负双很电离技术。在电场效果下,离子发 作器发作许多的 a 粒子, a 粒子与 空气中的氧分子进行磕碰而构成正负氧离子。正氧离 子具有很强的氧化性,能在很 短的时间内氧化分解甲硫醇、氨、硫化氢等污染因子,且在与 VOC 分子相 接触后翻开有机挥发性气体的化学键,通过一 系列的反响后很终生成二氧化碳和水等安稳的小分子。一同氧 离子能损坏空气中细菌的生存环境,下降室内细菌浓度。带电离 子能够吸附大于本身分量几十倍的悬浮颗粒,靠自重沉降下来,然后根 除空气中悬浮胶体抵达净化空气的意图
 
3、催化剂(二氧化钛)在遭到 紫外线光照射时生成化学生动性很强的超氧化物阴离子自由基和氢氧自由基,进犯有机物,抵达降 解有机物的效果。二氧化 钛归于非溶出型资料,在彻底 分解有机污染物和杀灭菌的一同,本身不分解、不溶出,光催化效果耐久,并具有耐久的灭菌、降解污染物效果。UV光氧催化设备制造
UV光氧催化设备
二、 产品功能总述
1、高效降解有机化学物:能高效 去除挥发性有机物(VOC)、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等首要污染物,以及各种恶臭味,脱臭功率可达99.9%以上,脱臭效 果大大超越国家1993年发布 的恶臭污染物排放标准(GB14554-93).
2、无需添加任何物质:只需要 设置相应的排风管道和排风动力,使气体 通过本设备进行脱臭分解净化,无需添 加任何物质参加化学反响。
3、习惯性强:可习惯高浓度,大气量,不同有 机化学气体物质的净化处理,可每天24小时接连作业,工作安稳牢靠。
4、工作成本低:本设备 无任何机械动作,无噪音,无需专 人处理和日常保护,只需作守时查看,本设备能耗低,(每处理1000立方米/小时,仅耗电约0.1度电能),设备风阻很低<30pa,可节约 许多排风动力能耗。
5、无需预处理:废气无 需进行特别的预处理,如加温、加湿等,设备作 业环境温度在摄氏-30o-95o之间,湿度在40%-98%之间均可正常作业。
6、设备占地面积小,自重轻:适合于安顿紧凑、场所狭小等特别条件。 
三、 适用范围炼油厂、橡胶厂、化工厂、家具厂、制药厂、污水处理厂、垃圾转 运站等恶臭气体的脱臭净化处理。

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